德福科技:电解铜箔总开工率达100%满产状态
2025年12月24日 | 浏览量:62400

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证券之星消息,德福科技(301511)12月23日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。
投资者:在数据中心需求爆发,存储芯片价格大幅上涨,德福科技自主研发的3um 超薄载体铜箔(C-IC1)已通过国内存储芯片龙头可靠性验证和工厂制造审核,自今年3月起开始供货。带载体可剥离超薄铜箔是制备难度最高的铜箔产品之一,该产品技术多年被日系及欧洲电子电路铜箔等公司垄断,公司是国内首家载体铜箔国产替代量产厂家,该产品可满足存储芯片封装基板超微细线宽线距需求。请问贵公司超薄铜箔产品目前产量如何是否有涨价?
德福科技董秘:尊敬的投资者您好,公司目前电解铜箔总开工率已达100%满产状态,经营状态良好。感谢您的关注。

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